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    未來,真空等離子清洗機(jī)清洗效果將變得更好!

    更新時(shí)間:2020-06-19      點(diǎn)擊次數(shù):1803
       真空等離子清洗機(jī)是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場,用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也越來越長,受磁場作用,發(fā)生碰撞而形成等離子體,同時(shí)會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運(yùn)動,并轟擊被處理物體表面,從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。
      傳統(tǒng)的清洗方法采用的是化學(xué)清洗的方法,如用雙氧水去除硅片表面的顆粒和有機(jī)物;用鹽酸去除表面金屬;用硫酸去除表面金屬和有機(jī)物。濕法清洗作為傳統(tǒng)的清洗方法依然還被應(yīng)用,但是與現(xiàn)在的等離子技術(shù)應(yīng)用相比還是有很多缺點(diǎn):
      1、清洗不*,需反復(fù)清洗;
      2、污染環(huán)境,需對廢液進(jìn)行處理;
      3、不能控制;
      4、容易引入新的雜質(zhì);
      5、對殘余物不能處理;
      6、消耗大量的酸和水;
      真空等離子清洗機(jī)是因壓等離子技術(shù)的突破與射頻低溫等離子體技術(shù)使用,被廣泛使用于各種行業(yè)范疇,尤其是在微電子工業(yè)中的使用使清洗更加快速和便利。等離子體清洗進(jìn)程不會發(fā)生污染,工藝進(jìn)程是安全、環(huán)保、綠色、創(chuàng)新使用,能夠節(jié)約很多的水資、人力和硫酸使用等離子體中的活性氧基團(tuán)與光刻膠反應(yīng),也能夠使用等離子體中所存在的很多電子和離子對外表進(jìn)行修飾的作用,來改變基底外表的浸潤性和粗糙度。它超越了傳統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了更高深清洗效果。

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